Bringas, Roberto Machorro, Universidad Nacional Autónoma de México, Perú

• SCIÉNDO Vol. 14 Núm. 1-2 (2011): Enero-Diciembre - Artículos Originales
  Efecto de la potencia de la fuente Dc en la densidad y temperatura electrónica del plasma durante el depósito de películas delgadas de nitruro de tungsteno
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