Efecto de la potencia de la fuente Dc en la densidad y temperatura electrónica del plasma durante el depósito de películas delgadas de nitruro de tungsteno. Sciéndo [Internet]. 30º de abril de 2014 [citado 19º de julho de 2026];14(1-2). Disponível em: https://revistas.unitru.edu.pe/index.php/SCIENDO/article/view/548