“Efecto de la potencia de la fuente Dc en la densidad y temperatura electrónica del plasma durante el depósito de películas delgadas de nitruro de tungsteno”, Sciéndo, vol. 14, nº 1-2, abr. 2014, Acesso em: 19º de julho de 2026. [Online]. Disponível em: https://revistas.unitru.edu.pe/index.php/SCIENDO/article/view/548