“Efecto de la potencia de la fuente Dc en la densidad y temperatura electrónica del plasma durante el depósito de películas delgadas de nitruro de tungsteno” (2014) SCIÉNDO, 14(1-2). Disponível em: https://revistas.unitru.edu.pe/index.php/SCIENDO/article/view/548 (Acesso em: 19 julho 2026).