«Efecto de la potencia de la fuente Dc en la densidad y temperatura electrónica del plasma durante el depósito de películas delgadas de nitruro de tungsteno», Sciéndo, vol. 14, n.º 1-2, abr. 2014, Accedido: 19 de julio de 2026. [En línea]. Disponible en: https://revistas.unitru.edu.pe/index.php/SCIENDO/article/view/548