«Efecto de la potencia de la fuente Dc en la densidad y temperatura electrónica del plasma durante el depósito de películas delgadas de nitruro de tungsteno» (2014) SCIÉNDO, 14(1-2). Disponible en: https://revistas.unitru.edu.pe/index.php/SCIENDO/article/view/548 (Accedido: 19 julio 2026).